四新千佛巖摩崖造像

四新千佛巖摩崖造像（第三批）。

保護(hù)范圍：東向以16號(hào)龕為基點(diǎn)，沿巖壁延伸20米；南向以巖頂為基點(diǎn)，向南外延20米；西向以4號(hào)龕為基點(diǎn)，沿巖壁延伸20米；北至黑龍灘水庫(kù)水面。

建設(shè)控制地帶：保護(hù)范圍外延30米。

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